Resumen

Los recubrimientos de TiN/TiC fueron depositados por la técnica de Deposición Física en Fase de Vapor asistida por Plasma (PAPVD) por Arco Pulsado. Los recubrimientos fueron analizados por Espectroscopia de fotoelectrones de Rayos X (XPS) y Difracción de Rayos X (XRD). El tratamiento de la señal del espectro angosto XPS y los patrones XRD confirmaron la presencia de TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) y TiCN (Carbonitruro de titanio), con grupo espacial fm-3m, correspondiente a la fase FCC de los compuestos sintetizados.

Palabras clave: TiN/TiC Interface PAPVD.

2013-12-05   |   514 visitas   |   Evalua este artículo 0 valoraciones

Vol. 18 Núm.1. Abril 2013 Pags. 280-284 Scientia et technica 2013; 18(1)